地　点：克立楼三楼报告厅

报告人：胡正明(Chenming Hu) 

报告人简介：微电子学家，美国加州大学伯克利分校杰出讲座教授、北京大学计算机科学技术系兼职教授、中国科学院微电子所荣誉教授、台湾交通大学(新竹)微电子器件荣誉教授、1991-1994年任清华大学(北京)微电子学研究所荣誉教授。三大科学院——美国国家工程院，中国科学院，中国台湾中央研究院院士。

报告摘要：Intel公司宣布将会在今年下半年启动的22纳米级微处理器计划中使用FinFET，并且将此3D三极管称为半导体技术领域50年来最为剧烈的变化。早在十年前，加利福尼亚大学伯克利分校就已开始进行FinFET研究，这种三极管究竟具有何种优势，未来又将会有哪些新型的三极管由于何种原因被人们发明并使用？